China sigue avances en tecnologia crea potente luz ultravioleta
Pekin….China no solo enfrenta a Estados Unidos en la guerra de aranceles, también enfrenta los desafíos en el campo de la tecnología dadas las restricciones que en determinadas áreas le ha impuesto occidente, con el objetivo de evitar que el gigante asiático se convierta en la primera potencia mundial en diverso ámbito.
Los avances en el campo de la
alta tecnología de parte de
China quedo en evidencia en el
campo de la luz ultravioleta
En medio de la escalada de
restricciones tecnológicas y tensiones geopolíticas, China logró un gran avance
en la tecnología para la fabricación de circuitos electrónicos avanzados, al
construir una fuente de luz ultravioleta extrema (EUV) con parámetros competitivos
a nivel internacional, informó este martes South China Morning Post.
Los responsables de este
hito fueron científicos del Instituto de Óptica y Mecánica de Precisión de
Shanghái, dirigidos por Lin Nan, quien anteriormente trabajó como jefe de
tecnología de fuentes de luz en la compañía ASML, de Países Bajos.
ASML es el único fabricante
en el mundo de máquinas EUV, que se emplean para la producción de 'chips' con
nodos menores a los 7 nanómetros. No obstante, desde 2019 tiene prohibido
vender sus modelos más avanzados a China debido a los controles de exportación
del Departamento del Comercio de EE.UU. y otras regulaciones.
China rompe la barrera
Ahora, los investigadores
chinos han desarrollado una plataforma experimental basada en láseres de estado
sólido, no muy diferente al equipo comercializado por ASML, que emplea luz
emitida por un láser de dióxido de carbono (CO2) para transferir patrones de
circuitos al silicio y otros sustratos.
Los láseres de CO2 ofrecen
una mayor potencia (10 kilovatios) y una alta frecuencia de repetición, a
diferencia de los sistemas de estado sólido. Sin embargo, son más voluminosos y
tienen una menor eficiencia al conectarse a la red eléctrica, además de que son
demasiado costosos en términos operativos y de electricidad.
Actualmente los láseres de
pulso de estado sólido han alcanzado una potencia de salida a nivel de
kilovatios, con el potencial de llegar a más de 10 veces esa cantidad en el
futuro.
Según un artículo publicado
en Chinese Journal of Lasers, al usar un láser de estado sólido del tamaño de
un micrómetro se logró una eficiencia energética de hasta 3,4 %, superando el
3,2 % registrado por el Centro de Investigación Avanzada de Nanolitografía
(Países Bajos) en 2019 y el 1,8 % de la Escuela Politécnica Federal de Zúrich
(Suiza) en 2021.
Estos láseres de estado
sólido pueden ser un sustituto de los de CO2 como fuente de alimentación de
próxima generación para la litografía LPP-EUV. No obstante, aún se encuentran
en una etapa experimental.
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